イオンテクノセンターは2008年に設立し、イオン工学に関する研究開発の受託やイオン工学関連装置による金属・セラミックス・半導体材料等の表面処理等の加工を行っている会社です。2006年にISO9001を、2012年にはKES環境マネジメントシステム・スタンダードステップ1を取得しています。
イオンテクノセンターは、テクノロジーの進化を担うクリエイティブ・ラボとして、イオン工学に関する幅広いサービスを提供しています。
イオン注入・成膜と分析・研究と事業化マネジメント・ERMサービスを提供しており、会社の前身であるイオン工学研究所の事業を引き継いで先端技術の研究開発を行っています。
立体形状物の表面にはDLC成膜・イオン注入、高硬度や耐摩擦性材料にはUBMS(アンバランスドマグネトロンスパッタリング装置)を使った成膜を、多層膜や多元素系薄膜形成技術としてはIBS(イオンビームスパッタリング装置)を用いて対応しています。
イオンテクノセンターでは半導体・デバイスなどの微小な部品から工業製品までをカバーする成膜加工を行っています。
CVD(化学蒸着)・PVD(物理蒸着)・PBII(プラズマベースイオン注入)に対応し、半導体工程の一部である電極形成や酸化膜等の成膜に加えて、金型などさまざまな基材への成膜に対応しています。
CVDはアモルファスシリコン・SiO2・Poly Si・SiN、PVDは金属膜・酸化膜・窒化膜・合金膜・セラミック、PBIIはDLC膜にそれぞれ対応しており、必要な膜の機能や表面改質に応じて適した方法を提案しています。
成膜加工を依頼する際には、自社に合った成膜加工会社選びが重要になります。
このサイトでは自社に合った成膜加工会社を探すことができます。ぜひ理想の製品に成膜してくれる会社を見つけてください。
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所在地 | 大阪府枚方市津田山手二丁目8番1号 津田サイエンスヒルズ |
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電話番号 | 072-859-6601 |
受付時間・定休日 | 9:00~17:00・土曜、日曜、祝日 |
会社名 | 株式会社イオンテクノセンター |
公式HPのURL | https://iontc.co.jp/ |