大和テクノシステムズ

大和テクノシステムズは、東京都港区でフィラメントのメーカーとして1967年に創業した会社です。独自に開発したオリジナル成膜装置を用いて、プラズマCVD法による成膜処理を行っています。

大和テクノシステムズの特徴

特許取得のオスミウム成膜技術

大和テクノシステムズでは、日米で特許を取得したオスミウム成膜技術を用いた成膜処理に強みをもっています。青灰色をした白金族であるオスミウムはモース硬度が8と非常に硬く、大和テクノシステムズでは高アスペクト比での成膜が可能です。

成膜されたオスミウム膜は10〜100nm程度と非常に薄く、タンタル・モリブデン・白金・金・チタン・ステンレス・タングステン・アルミ・銅・シリコンウェハのような導電性物質で真空を汚さない特性の材質に成膜が可能です。

参照元：大和テクノシステムズ（https://www.daiwatechno.co.jp/technology/deposition）

プラズマCVD法で孔内壁まで成膜

成膜加工では、材料を孔内壁まで均一に成膜させるために、プラズマCVD法を採用しています。

化学反応によって成膜材料を分解する過程で、放電プラズマを使い気体雰囲気中で基板上に体積させていくため、美しい成膜形成が可能となっています。

大和テクノシステムズが対応している分野・製品

• 電機・電子部品

大和テクノシステムズの生産体制や保有している設備・機器

オリジナルのオスミウム成膜装置

引用元HP：大和テクノシステムズ
https://www.daiwatechno.co.jp/technology/deposition

オスミウム成膜には、他にないオリジナルのプラズマCVD装置が使われます。成膜材料を化学反応によって分解します。

オスミウムを使った成膜加工では、粒子が小さなオスミウム気体雰囲気によって回り込み性を確保し、内壁まで均一な皮膜を形成します。

大和テクノシステムズの成膜加工事例・実績

引用元HP：大和テクノシステムズ
https://www.daiwatechno.co.jp/technology/deposition

大和テクノシステムズの成膜加工を、電子顕微鏡のアパーチャープレートに施した事例です。オスミウムなしの状態では帯電現象が発生してしまいますが、オスミウムを成膜することでチャージアップ防止効果が付加されています。

また、電子顕微鏡のアパーチャープレートに対してはビームダメージ軽減効果も付加されています。オスミウムを付加しない状態ではビームダメージが発生してしまいますが、オスミウムありの状態で加工を行うことでダメージを軽減します。

引用元HP：大和テクノシステムズ
https://www.daiwatechno.co.jp/technology/deposition

パイプ内部にオスミウム成膜を施した事例です。画像は直径2mm、長さ14mmのパイプを半分に切った状態で、内部にほぼ均一に成膜されていることがわかります。

大和テクノシステムズの基本情報